1. 压力、流量自动显示，自动恒压、恒流，氢气流量可根据用量实现全自动调节。

 

　　2. 双支不锈钢过滤器，内有微量氧脱除剂（不需活化），氢气纯度更高；仪器内部采用硅橡胶圈(含硫量低)，有效提高气体质量，保证色谱基线平稳。

 

　　3. 提供高、低压两种工作模式，可灵活运用在不同状态。

 

　　4. 配有安全装置，灵敏可靠，自动防返碱。

 

　　氢气发生器可以连续可靠的产生纯度*的氢气，纯度>99.9999%。从而使昂贵且危险的高压氢气钢瓶*告别实验室，整个过程只需去离子水和供电，即可产生氢气，一次加水即可持续工作15天，成本低。氢气发生器的安全、简便性能使其替代了危险的高压氢气钢瓶。氢气根据需要适时适量产生，保持氢气储存体积和安全性。

 

　　氢气也可以应用在化学气相沉积（ChemicalVaporDepositon）薄膜生长。化学气相沉积是一种利用固态-气态反应、气态-气态反应生成薄膜的设备，如在CVD工艺中作为还原性气体制备二维材料MOS2、WS2等；等离子增强化学气相沉积（PECVD）工艺中作为还原性气体制备石墨烯、单晶硅、碳化硅等；电子回旋共振化学气相沉积（ECR-CVD）中作为反应气体在单晶硅衬底上制备金刚石薄膜；金属有机化学气相沉积（MOCVD）设备中作为载气制备光电材料GaN、AlGaN等。同时氢气也可以在原子层沉积（AtomicLayerDeposition）中使用。氢气发生器目前已大量应用在以上工艺中，为半导体材料及器件制备提供好的气源。